技術(shù)資源
電子束增材制造電源的智能穩(wěn)流方案
電子束增材制造（EBAM）是一種高能束流金屬成形技術(shù)，其電源系統(tǒng)需為電子槍和聚焦透鏡提供穩(wěn)定的高壓與精確的束流控制。電源輸出的電流波動(dòng)
靜電卡盤電源的精準(zhǔn)吸附控制算法
靜電卡盤（Electrostatic Chuck, ESC）在晶圓加工中用于固定與釋放工件，其電源需提供可控高壓直流以形成吸附電場(chǎng)。卡盤吸附力與輸出電壓
離子注入電源的多級(jí)保護(hù)系統(tǒng)設(shè)計(jì)
離子注入設(shè)備的電源系統(tǒng)負(fù)責(zé)產(chǎn)生并維持高能離子束所需的加速電壓與束流控制電流。此類高壓電源通常在幾十千伏至上百千伏范圍內(nèi)工作，輸出功
光刻機(jī)光源電源的高壓驅(qū)動(dòng)優(yōu)化
光刻機(jī)光源系統(tǒng)作為半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵能源部件，其穩(wěn)定性和一致性直接影響曝光精度與線寬控制。光源電源通常為高壓脈沖型，負(fù)責(zé)驅(qū)動(dòng)準(zhǔn)分子激
血液輻照高壓電源的電場(chǎng)均勻性研究
血液輻照設(shè)備用于防止輸血后移植物抗宿主反應(yīng)，其核心是通過(guò)γ射線或電子束均勻輻照血袋。電場(chǎng)均勻性直接影響束流分布與劑量均衡，而
靜電噴涂高壓電源的安全保護(hù)機(jī)制
靜電噴涂工藝?yán)酶邏弘妶?chǎng)使粉末涂料帶電并吸附到工件表面，以形成均勻涂層。高壓電源通常輸出60～120 kV直流電壓，是系統(tǒng)能效與安全的關(guān)
真空鍍膜設(shè)備電源的多通道控制策略
真空鍍膜設(shè)備中，高壓電源用于為濺射靶、偏壓電極及輔助離子源供能。隨著多層膜系和復(fù)合鍍膜工藝的發(fā)展，單一通道供電已無(wú)法滿足工藝靈活性
離子注入系統(tǒng)電源的高穩(wěn)定性設(shè)計(jì)
離子注入是半導(dǎo)體制造工藝中控制摻雜濃度與分布精度的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。離子注入系統(tǒng)利用加速電場(chǎng)將帶電離子打入晶圓表層，而離子能量、劑量與均勻
高壓電源在電子束成像中的創(chuàng)新應(yīng)用
電子束成像技術(shù)是一種基于高能電子與樣品相互作用實(shí)現(xiàn)顯微成像的方法，廣泛應(yīng)用于材料分析、半導(dǎo)體檢測(cè)及微結(jié)構(gòu)研究。電子束系統(tǒng)的分辨率和