技術(shù)資源
光刻機(jī)電源數(shù)字化管理與維護(hù)優(yōu)化
光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中最為復(fù)雜的設(shè)備之一，包含大量精密機(jī)械、光學(xué)系統(tǒng)、高功率光源、溫控系統(tǒng)以及高速運(yùn)動(dòng)平臺(tái)。電源系統(tǒng)作為這些模塊的基
高壓電源助力晶圓退火工藝自動(dòng)化
晶圓退火工藝是半導(dǎo)體制造中不可或缺的高溫處理步驟，被廣泛應(yīng)用于離子注入活化、薄膜應(yīng)力釋放、接觸電阻降低、介質(zhì)層密度提高等關(guān)鍵環(huán)節(jié)。
離子注入機(jī)電源智能化控制新趨勢(shì)
離子注入技術(shù)在先進(jìn)工藝制程中的地位不斷提升，其對(duì)高壓電源系統(tǒng)提出了更高層級(jí)的穩(wěn)定性、響應(yīng)速度與智能化管理要求。隨著器件尺寸的持續(xù)縮
封測(cè)設(shè)備電源系統(tǒng)創(chuàng)新與優(yōu)化
封裝與測(cè)試環(huán)節(jié)在半導(dǎo)體制造鏈中承擔(dān)著連接晶圓制造與最終交付的重要任務(wù)，其設(shè)備類型繁多，包括固晶、引線鍵合、焊球植球、模封、切割分離
離子注入機(jī)電源國(guó)產(chǎn)化及創(chuàng)新應(yīng)用趨勢(shì)
離子注入機(jī)作為半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備，其高壓電源系統(tǒng)的國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程正加速推進(jìn)，這不僅提升了供應(yīng)鏈自主性，還為創(chuàng)新應(yīng)用注入了新活力。高
高壓電源助力晶圓清洗產(chǎn)能升級(jí)
晶圓清洗工藝作為半導(dǎo)體制造中不可或缺的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，其效率、潔凈度與穩(wěn)定性直接影響后續(xù)光刻、沉積與刻蝕工序的良率。隨著先進(jìn)制程對(duì)表面潔
高壓電源引入智能化溫控策略
在節(jié)能改造路徑中，散熱優(yōu)化同樣不可忽視。傳統(tǒng)的風(fēng)冷系統(tǒng)在長(zhǎng)時(shí)間高負(fù)荷運(yùn)行時(shí)效率偏低，而優(yōu)化后的高壓電源會(huì)引入智能化溫控策略，例如基
高壓電源助力光刻機(jī)節(jié)能改造
隨著半導(dǎo)體制造工藝節(jié)點(diǎn)不斷縮小，光刻機(jī)，特別是極紫外（EUV）光刻機(jī)，對(duì)電能的需求急劇上升，使其成為晶圓廠中的高能耗大戶。高壓電源系
光刻機(jī)電源可靠性提升方案解析
光刻機(jī)電源系統(tǒng)的可靠性是維持半導(dǎo)體產(chǎn)線高綜合設(shè)備效率（OEE）的生命線。電源系統(tǒng)一旦失效，將導(dǎo)致光刻機(jī)停機(jī)，帶來巨大的經(jīng)濟(jì)損失。因此